تایید (کنترل) همراستایی برای لیتوگرافی پرتو الکترون

مقاله ترجمه شده انگلیسی به فارسی Alignment verification for electron beam lithography عنوان فارسی: تایید (کنترل) همراستایی برای لیتوگرافی پرتو الکترون چکیده همراستایی بین لایه های لیتوگرافی برای تولید ابزار ضروری می باشد. نقص جزئی در یک علامت مجزایی می تواند منجر به هم ترازی غیرصحیح شود و می تواند منبع تعدیل ویفر باشد. در این مقاله، ثابت می کنیم که این امر می تواند به وسیله مشخصه های هم ترازی اضافی برای بررسی هم ترازی در طول الگوبرداری، به جای بازرسی الگوهای ورنیه بعد از کامل شدن طراحی جلوگیری شود. الگوهای دقیق ورنیه اغلب می توانند فقط بعد از آنکه انجام تبدیل الگو خوانده شوند. همچنین ثابت می کنیم که با استفاده از یک ورقه پنروز به عنوان یک مشخصه،